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17.(15分))[文](+9(1分)除去[章]粗硅中的SOFOC[来]uO等杂质(2分)[自](2)ab(2分)[知]1100~1200[嘛]℃(3)SiHCl[答]3 H2Si+3HCl[案](2分)2NA(1[网]分)加热SiHC3[文],使之变成蒸汽进入[章]石英管(1分)反应[来]温度较高,普通玻璃[自]不能承受该高温(2[知]分)(4)没有进行[嘛]尾气处理(1分)([答]5)蒸馏(1分)([案]6)使用有毒气体;[网]三氯氢硅氢还原法中[文]HC和H2可以直接[章]循环利用,节约成本[来],而四氯化硅氢还原[自]法中没有可循环利用[知]的原料(2分,其他[嘛]合理答案也给分)【[答]解析】(1)硅的原[案]子结构示意图为(+[网]14)284,粗硅[文]中含有杂质SiO2[章]、Fe2O3、Cu[来]O、C等,FezO[自]3、CuO能与酸反[知]应,SiO2能与碱[嘛]反应,进行酸、碱预[答]处理的目的是除去粗[案]硅中的SO2、Fe[网]2O3、CuO等杂[文]质。(2)实验室中[章]制备HC气体是用固[来]体NaCl和浓硫酸[自]加热反应,可选用装[知]置b;也可采用向浓[嘛]盐酸中滴加浓硫酸,[答]可选用装置a。(3[案])图B中SiHC3[网]与H2反应制S,反[文]应的化学方1100[章]~1200℃程式为[来]SiHC3+H2S[自]i+3HC1,生成[知]1 mol s转移的电子数为2[嘛]NA;其烧杯中水的[答]作用是加热SHCl[案]3,使之变成蒸汽进[网]人石英管;该较使用[文]石英管而不是普通玻[章]璃管的原因是反应温[来]度较高,普通玻璃不[自]能承受该高温。(4[知])三氯氢硅有一定毒[嘛]性,需进行尾气处理[答]。5)由表中数据可[案]知,SHC3和Si[网]Cl4的沸点相差较[文]大,最好的分离方法[章]是蒸馏。(6)四氯[来]化硅氢还原法制硅的[自]不足之处在于使用有[知]毒气体;三氯氢硅氢[嘛]还原法中HC和H2[答]可以直接循环利用,[案]节约成本,而四氯化[网]硅氢还原法中没有可[文]循环利用的原料。
9.C【解析】钾的[章]密度小于钠的密度,[来]A项错误;碱金属中[自]除锂外,均不易与N[知]2直接反应,B项错[嘛]误;由Na2CO加[答]热不分解,可得出C[案]s2CO3加热也不[网]分解C项正确;Cs[文]与Na同为碱金属元[章]素,性质相似,由N[来]a2SO4易溶于水[自],可得出Cs2SO[知]4也易溶于水,D项[嘛]错误